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Lithographie

Quelle est la principale cause de la « lumière parasite » (flare) qui pose problème en lithographie EUV ?

  1. ALa lumière est diffusée par de légères irrégularités de la surface des miroirs et atteint aussi des zones qui devraient être sombres
  2. BLa résine brûle
  3. CLe wafer tourne
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Réponse : A. La lumière est diffusée par de légères irrégularités de la surface des miroirs et atteint aussi des zones qui devraient être sombres

La longueur d'onde EUV étant très courte, même de légères irrégularités de surface des miroirs à l'échelle atomique (environ 0,1 nm) diffusent la lumière. La lumière diffusée atteint sur une large zone des parties qui devraient rester sombres (flare), ce qui réduit le contraste de l'image et provoque des variations dimensionnelles. La lumière parasite variant selon la surface des zones claires environnantes, on effectue par OPC une correction dimensionnelle selon la densité des motifs, et on la limite par un polissage ultra-précis des miroirs.

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