Dans les masques EUV, comment appelle-t-on le phénomène par lequel l'épaisseur des motifs d'absorbeur, non négligeable par rapport à la longueur d'onde, fait que la lumière oblique crée des ombres, etc., et affecte l'image ?

Réponse : B. Effet 3D du masque

Le masque EUV est réflectif et la lumière arrive avec une inclinaison d'environ 6°. L'absorbeur ayant une épaisseur de 50 à 70 nm, supérieure à la longueur d'onde de 13,5 nm, ses flancs créent des ombres ou modifient la phase, si bien que les dimensions et positions dérivent selon l'orientation des motifs, et la mise au point optimale varie aussi selon les motifs (effet 3D du masque). On développe des matériaux d'absorbeur à forte absorption permettant de l'amincir, des masques EUV à décalage de phase, et l'on effectue des corrections par OPC.