Lithographie
En lithographie à immersion à très grande ouverture numérique (NA), pourquoi devient-il nécessaire de tenir compte de la polarisation de la lumière ?
- AParce que la polarisation modifie la longueur d'onde de la lumière
- BParce que la polarisation modifie l'épaisseur de la résine
- CParce que la lumière arrivant sous un grand angle, l'intensité des interférences (contraste de l'image) dépend de l'orientation de la polarisation
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Réponse : C. Parce que la lumière arrivant sous un grand angle, l'intensité des interférences (contraste de l'image) dépend de l'orientation de la polarisation
Avec une grande NA, l'angle d'incidence de la lumière sur le wafer devient grand (environ 70° dans l'eau pour une NA de 1,35). Si les champs électriques des deux faisceaux qui interfèrent sont perpendiculaires au plan d'incidence (polarisation TE), ils interfèrent fortement ; s'ils sont parallèles (polarisation TM), la composante qui s'annule croît avec l'angle et le contraste de l'image baisse. La lithographie à immersion utilise donc une illumination polarisée, contrôlée pour être TE selon l'orientation des lignes.