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Lithographie

Comment appelle-t-on le matériau utilisé pour fabriquer les photomasques, constitué d'un substrat en verre de quartz sur lequel un film opaque, etc. a été préalablement déposé ?

  1. AÉbauche de masque (mask blank)
  2. BWafer
  3. CPastille
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Réponse : A. Ébauche de masque (mask blank)

L'ébauche de masque est un substrat en verre de quartz à faible défectivité et haute planéité (6 pouces de côté, environ 6 mm d'épaisseur), sur lequel on a déposé un film opaque ou déphaseur en chrome, MoSi, etc. (multicouche et absorbeur pour l'EUV) et enduit une résine. On y écrit le motif par faisceau d'électrons, puis on grave pour obtenir le photomasque. Les ébauches EUV en particulier sont soumises à des exigences très strictes de faible défectivité, et des entreprises japonaises comme HOYA détiennent une part importante du marché.

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