Lithografie

Wie heißt das Material, bei dem auf ein Quarzglassubstrat vorab lichtabschirmende Filme usw. abgeschieden sind und das zur Herstellung von Fotomasken dient?

  1. AMask Blanks
  2. BWafer
  3. CPellet
Antwort und Erläuterung anzeigen

Antwort: A. Mask Blanks

Mask Blanks sind Material, bei dem auf ein defektarmes Quarzglassubstrat hoher Planarität (6 Zoll Kantenlänge, etwa 6 mm Dicke) lichtabschirmende bzw. phasenschiebende Filme aus Chrom, MoSi usw. (bei EUV Vielschicht- und Absorberfilm) abgeschieden und Resist aufgetragen ist. Darauf wird mit dem Elektronenstrahl das Muster geschrieben und geätzt, um die Fotomaske herzustellen. Besonders EUV-Blanks müssen sehr defektarm sein, und japanische Unternehmen wie HOYA haben große Marktanteile.

Dieses Thema üben Zur Themenseite

Weitere Fragen zu Lithografie

  1. Welches Merkmal des Verfahrens, bei dem ohne Maske direkt mit dem Elektronenstrahl auf den Resist auf dem Wafer geschrieben wird, ist richtig?
  2. Auf welche Weise wird in der Lichtquelle einer EUV-Belichtungsanlage das 13,5-nm-Licht erzeugt?
  3. Wie heißt die Behandlung, bei der nach dem Aufschleudern des Resists der am Waferrand aufgewölbte Resist mit Lösungsmittel entfernt wird?
  4. Welche Größe des maximalen Bereichs, der bei heutigen Scanner-Belichtungsanlagen mit einer Belichtung (einem Shot) auf dem Wafer belichtet werden kann, ist üblich?
  5. Welche Technik optimiert die Beleuchtungsform der Belichtungsanlage und das Maskenmuster gleichzeitig per Rechner, um die Auflösung zu erhöhen?

Vergleiche zu diesem Thema