Dans le double patterning de type LELE (litho-etch-litho-etch), quelle exigence est particulièrement stricte ?

Réponse : C. La précision de superposition entre le premier et le second motif

En LELE, les motifs fins étant divisés en deux et exposés et gravés séparément, un décalage du second motif par rapport au premier modifie d'autant l'espacement entre lignes voisines, ce qui affecte directement la capacité des interconnexions et les courts-circuits. Par exemple, un décalage de 2 nm pour un espacement de 20 nm représente une variation de 10 %. Une précision de superposition très élevée est donc nécessaire. En SADP, qui utilise des espaceurs, la position des lignes est déterminée de façon auto-alignée, ce qui atténue ce problème.