Was wird beim Double Patterning nach dem LELE-Verfahren (Litho-Etch-Litho-Etch) besonders streng gefordert?

Antwort: C. Die Überlagerungsgenauigkeit zwischen erstem und zweitem Muster

Beim LELE wird ein feines Muster in zwei Teile aufgeteilt und getrennt belichtet und geätzt; verschiebt sich das zweite Muster gegenüber dem ersten, ändert sich der Abstand zwischen benachbarten Linien um genau diese Verschiebung, was sich unmittelbar auf Leitbahnkapazität und Kurzschlüsse auswirkt. Bei 20 nm Abstand und 2 nm Versatz sind das beispielsweise 10 % Änderung. Daher ist eine sehr hohe Überlagerungsgenauigkeit nötig. Beim SADP mit Spacern ergibt sich die Linienposition selbstjustiert, sodass dieses Problem kleiner ist.