Lithographie

Quelle technique améliore la résolution des motifs fins en éclairant le masque sous une incidence oblique ?

  1. AOPC (correction des effets de proximité optique)
  2. BIllumination modifiée (illumination hors axe)
  3. CMasque à décalage de phase
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Réponse : B. Illumination modifiée (illumination hors axe)

Pour des motifs périodiques fins, la lumière diffractée s'étale sous de grands angles et n'entre plus dans la lentille ; l'ordre 0 seul ne forme pas d'image. En éclairant obliquement, on fait entrer dans la lentille à la fois l'ordre 0 et l'un des ordres 1 diffractés, ce qui permet en théorie de résoudre un pas environ deux fois plus fin, tout en augmentant la profondeur de champ. Il existe l'illumination annulaire, dipolaire, quadripolaire, etc. ; on utilise aujourd'hui des systèmes d'illumination permettant de définir librement la forme de la source pixel par pixel.

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