Lithographie
Quelle est la principale cause des fluctuations aléatoires (effets stochastiques) qui posent problème en lithographie EUV ?
- ALa longueur d'onde de la lumière EUV est plus longue que celle de l'ArF
- BLa lithographie EUV utilise des lentilles
- CL'énergie par photon de la lumière EUV est élevée, si bien qu'à dose égale le nombre de photons est faible
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Réponse : C. L'énergie par photon de la lumière EUV est élevée, si bien qu'à dose égale le nombre de photons est faible
L'énergie d'un photon est inversement proportionnelle à la longueur d'onde ; celle de l'EUV (13,5 nm, environ 92 eV) est environ 14 fois celle de l'ArF (193 nm, environ 6,4 eV). À dose égale, le nombre de photons reçus est divisé par 14 ; par exemple, un carré de 20 nm de côté ne reçoit que de quelques centaines à quelques milliers de photons, nombre qui fluctue statistiquement d'environ √N. Ce sont les effets stochastiques, responsables de motifs manquants ou pontés, de la LER et de petits trous non ouverts. Augmenter la dose améliore la situation mais réduit la productivité.