Lithographie

Quelle description du coefficient k1 de la formule de résolution R = k1 × λ / NA est correcte ?

  1. AC'est un coefficient représentant la difficulté du procédé, dont la limite inférieure théorique pour une seule exposition est 0,25
  2. BPlus il est grand, plus la résolution est élevée
  3. CIl vaut toujours 1 ou plus
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : A. C'est un coefficient représentant la difficulté du procédé, dont la limite inférieure théorique pour une seule exposition est 0,25

k1 est un coefficient qui synthétise les performances de la résine, l'ingéniosité du masque, les conditions d'illumination, etc. ; plus il est petit, plus les motifs résolus sont fins, mais plus la fenêtre de procédé se rétrécit et plus le procédé devient difficile. La limite inférieure théorique pour résoudre un motif périodique (lignes et espaces) en une seule exposition est 0,25. Il valait environ 0,6 dans les années 1990, mais les techniques de super-résolution comme l'illumination modifiée, les masques à décalage de phase et l'OPC l'ont abaissé à environ 0,27 à 0,3 même en production.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Lithographie

  1. Quelle est la principale cause des fluctuations aléatoires (effets stochastiques) qui posent problème en lithographie EUV ?
  2. Pourquoi les défauts enfouis à l'intérieur du multicouche posent-ils problème dans les masques EUV ?
  3. Comment appelle-t-on la plage de conditions dans laquelle les dimensions du motif restent dans la tolérance malgré les variations de dose et de mise au point ?
  4. Dans le double patterning de type LELE (litho-etch-litho-etch), quelle exigence est particulièrement stricte ?
  5. Quelle est la longueur d'onde de la raie i de la lampe à mercure ?

Comparatifs sur ce thème