Lithografie

Was ist die Hauptursache der bei der EUV-Belichtung problematischen stochastischen Schwankungen (Stochastik)?

  1. AWeil die EUV-Wellenlänge länger als die von ArF ist
  2. BWeil bei der EUV-Belichtung Linsen verwendet werden
  3. CWeil ein EUV-Photon viel Energie hat und bei gleicher Dosis die Photonenzahl gering ist
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Antwort: C. Weil ein EUV-Photon viel Energie hat und bei gleicher Dosis die Photonenzahl gering ist

Die Energie eines Photons ist umgekehrt proportional zur Wellenlänge, und bei EUV (13,5 nm, etwa 92 eV) ist sie etwa 14-mal so hoch wie bei ArF (193 nm, etwa 6,4 eV). Bei gleicher Dosis ist die Zahl der auftreffenden Photonen nur 1/14; in einem Quadrat von 20 nm Kantenlänge sind es beispielsweise nur einige hundert bis tausend Photonen, deren Zahl statistisch um etwa √N schwankt. Das ist die Stochastik, die Ursache für Strukturfehlstellen und -brücken, LER und nicht geöffnete kleine Löcher ist. Eine höhere Dosis bessert dies, senkt aber die Produktivität.

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