Lithografie
Wat is de juiste hoofdoorzaak van de stochastische fluctuaties (stochastics) die bij EUV-belichting een probleem vormen?
- AOmdat de golflengte van EUV-licht langer is dan die van ArF
- BOmdat bij EUV-belichting lenzen worden gebruikt
- COmdat een EUV-foton veel energie heeft en het aantal fotonen bij dezelfde belichtingsdosis dus klein is
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Omdat een EUV-foton veel energie heeft en het aantal fotonen bij dezelfde belichtingsdosis dus klein is
De energie van een foton is omgekeerd evenredig met de golflengte, en EUV (13,5 nm, ongeveer 92 eV) heeft ongeveer 14 keer die van ArF (193 nm, ongeveer 6,4 eV). Bij dezelfde dosis is het aantal invallende fotonen 1/14; in een gebied van 20 nm in het vierkant komen slechts enkele honderden tot enkele duizenden fotonen, en dat aantal fluctueert statistisch met ongeveer √N. Dit zijn de stochastics, die de oorzaak zijn van defecten zoals ontbrekende of verbonden patronen, LER en kleine gaten die niet opengaan. Een hogere dosis verbetert het, maar verlaagt de productiviteit.