Wat is de rol van het dunne vlies (pellicle) dat op enige afstand boven het fotomasker wordt gespannen?

Antwoord: C. Voorkomen dat vreemde deeltjes rechtstreeks aan het maskeroppervlak hechten, en dat deeltjes die op de pellicle terechtkomen niet in focus zijn en daardoor moeilijk worden overgebracht

Als er een vreemd deeltje op het masker komt, wordt het defect overgebracht op alle shots van alle wafers die met dat masker worden belicht. De pellicle is een transparant vlies van minder dan 1 µm dik dat ongeveer 6 mm van het masker af op een frame is gespannen; vreemde deeltjes komen op de pellicle terecht, zijn niet in focus en worden vaag, zodat ze moeilijk op de wafer worden overgebracht. Voor EUV zijn ultradunne films van enkele tientallen nm (zoals polysilicium of koolstofnanobuizen) ontwikkeld die ongeveer 90% van het EUV-licht doorlaten en hoge temperaturen weerstaan.