Quel équipement est principalement utilisé pour écrire les motifs des photomasques (réticules) ?

Réponse : A. Équipement d'écriture par faisceau d'électrons

Les motifs des photomasques sont réalisés par un équipement d'écriture par faisceau d'électrons, qui envoie directement sur la résine du masque un faisceau d'électrons focalisé à quelques nm. Il permet de dessiner des motifs très fins sans masque, mais l'écriture se faisant trait par trait, un masque peut demander une dizaine d'heures ou plus ; en production, on transfère donc d'un bloc à l'aide de masques. Pour les masques avancés, des équipements multifaisceaux utilisant simultanément des centaines de milliers de faisceaux d'électrons écrivent rapidement l'OPC et les motifs curvilignes.