Lithografie

Welche Anlage wird hauptsächlich zum Schreiben der Muster von Fotomasken (Retikeln) verwendet?

  1. AElektronenstrahl-Schreibanlage
  2. BStepper
  3. CCMP-Anlage
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Antwort: A. Elektronenstrahl-Schreibanlage

Die Muster von Fotomasken werden mit einer Elektronenstrahl-Schreibanlage erzeugt, die einen auf wenige nm fokussierten Elektronenstrahl direkt auf den Resist der Maske richtet. Ohne Maske lassen sich sehr feine Muster schreiben, doch da punktweise geschrieben wird, kann eine Maske mehr als zehn Stunden dauern, weshalb in der Serienfertigung Masken zur Übertragung in einem Schritt dienen. Bei fortgeschrittenen Masken werden Multibeam-Schreibanlagen mit mehreren hunderttausend gleichzeitigen Elektronenstrahlen verwendet, die OPC- und gekrümmte Muster schnell schreiben.

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