Lithographie
Quel est l'ordre général correct des étapes de lithographie ?
- AExposition → enduction de résine → développement → pré-recuit
- BEnduction de résine → pré-recuit → exposition → recuit post-exposition → développement
- CDéveloppement → exposition → enduction de résine → gravure
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Réponse : B. Enduction de résine → pré-recuit → exposition → recuit post-exposition → développement
On améliore d'abord l'adhérence par un traitement HMDS, on enduit le film antireflet et la résine, et le pré-recuit (environ 100 °C) évapore le solvant. Vient ensuite l'exposition, puis, pour les résines à amplification chimique, le recuit post-exposition (PEB) qui fait progresser la réaction. Enfin, le développement dans un développeur alcalin forme le motif, éventuellement suivi d'un post-recuit de durcissement. De l'enduction au développement, le traitement se fait dans une piste d'enduction-développement couplée à l'équipement d'exposition, avec une température contrôlée à environ ±0,1 °C.