Lithografie

Welke eigenschap van een scanner-belichtingsapparaat is juist?

  1. ADe hele wafer wordt in één keer belicht
  2. BDirect schrijven zonder masker
  3. CBelichting terwijl masker en wafer synchroon bewegen ten opzichte van een spleetvormige lichtbundel
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Belichting terwijl masker en wafer synchroon bewegen ten opzichte van een spleetvormige lichtbundel

Een scanner belicht één shot (26 × 33 mm) door alleen een spleetvormig gebied van enkele mm breed met licht te bestralen en masker en wafer synchroon in tegengestelde richting te scannen met een snelheidsverhouding van 4:1. Alleen het midden van de lens met weinig aberraties kan worden gebruikt, een gebied dat lang is in de scanrichting kan worden belicht, en ook de variatie binnen een shot wordt uitgemiddeld. Het stage houdt een nauwkeurigheid in nm terwijl het met een versnelling van enkele m/s² beweegt. Een apparaat dat stilstaand in één keer belicht, is een stepper.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welke eigenschap van het masker voor EUV-belichting is juist?
  2. Welke is de gebruikelijke procesvolgorde in lithografie?
  3. Hoe heet de techniek waarbij een matrijs (mold) met een fijn patroon in de resist wordt gedrukt om het patroon over te brengen?
  4. Welk apparaat wordt vooral gebruikt om het patroon van een fotomasker (reticle) te schrijven?
  5. Wat is de rol van het dunne vlies (pellicle) dat op enige afstand boven het fotomasker wordt gespannen?

Vergelijkingen bij dit onderwerp