Lithographie
Quelle caractéristique d'une résine à amplification chimique est correcte ?
- AElle se dissout au développement même sans exposition
- BElle réagit uniquement à la chaleur et non à la lumière
- CL'acide généré par l'exposition agit comme catalyseur lors du recuit post-exposition (PEB) et fait progresser la réaction avec une faible dose d'exposition
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Réponse : C. L'acide généré par l'exposition agit comme catalyseur lors du recuit post-exposition (PEB) et fait progresser la réaction avec une faible dose d'exposition
Dans une résine à amplification chimique, l'exposition libère un acide à partir d'un générateur photoacide, et pendant le recuit post-exposition (PEB, environ 90 à 130 °C), cet acide catalyse plusieurs dizaines à centaines de fois la réaction de déprotection des groupes protecteurs de la résine. Un seul photon déclenchant de nombreuses réactions, la sensibilité est très élevée, ce qui était nécessaire pour le KrF, l'ArF et l'EUV, aux sources peu intenses. Elle a été développée chez IBM dans les années 1980. En revanche, une diffusion excessive de l'acide floute l'image ; la température et la durée du PEB sont donc strictement contrôlées.