Lithografie
Welke eigenschap van chemisch versterkte resist is juist?
- AHet lost ook zonder belichting op bij het ontwikkelen
- BHet reageert alleen op warmte en niet op licht
- CHet zuur dat bij belichting ontstaat werkt tijdens de post-exposure bake (PEB) als katalysator, zodat de reactie met weinig belichting vordert
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Het zuur dat bij belichting ontstaat werkt tijdens de post-exposure bake (PEB) als katalysator, zodat de reactie met weinig belichting vordert
Bij chemisch versterkte resist ontstaat bij belichting zuur uit een fotozuurgenerator, en tijdens de verhitting na de belichting (PEB, ongeveer 90-130 °C) werkt dat zuur als katalysator en herhaalt de reactie waarbij beschermende groepen van de hars worden afgesplitst tientallen tot honderden malen. Omdat één foton veel reacties laat verlopen, is de gevoeligheid zeer hoog, wat nodig was voor KrF, ArF en EUV met zwakke lichtbronnen. Het werd in de jaren 80 bij IBM ontwikkeld. Als het zuur te ver diffundeert, wordt het beeld echter vaag, dus temperatuur en tijd van de PEB worden streng beheerd.