이온 주입

LSI 제조에서 사용되는 이온 주입의 도즈량 범위로 가장 가까운 것은 무엇인가?

  1. A약 10³⁰ cm⁻² 이상
  2. B약 10¹¹~10¹⁶ cm⁻²
  3. C약 10¹~10³ cm⁻²
정답과 해설 보기

정답: B. 약 10¹¹~10¹⁶ cm⁻²

문턱 전압 조정 등에서는 10¹¹~10¹³ cm⁻² 정도, 소스·드레인이나 게이트의 저저항화에서는 10¹⁵ cm⁻² 전후, 스마트 컷의 수소에서는 10¹⁶ cm⁻² 이상으로, 전체적으로 5자릿수 이상의 넓은 범위가 사용됩니다. 10¹² cm⁻² 주입에서 1 cm²에 들어가는 이온은 1조 개이지만, 표면 원자 수의 1000분의 1 정도에 불과합니다. 이 넓은 범위를 ±1 % 정도의 정밀도로 제어할 수 있다는 것이 이온 주입의 강점입니다.

  • A. 10³⁰ cm⁻²는 실리콘 표면의 원자 수(약 10¹⁵ cm⁻²)를 훨씬 넘어 있을 수 없습니다.
  • B. 올바릅니다. 용도에 따라 10¹¹~10¹⁶ cm⁻² 정도가 사용됩니다.
  • C. 10¹~10³ cm⁻²는 너무 적어서 전기적 특성이 거의 변하지 않습니다.
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