Procédés d'interconnexion

Comment appelle-t-on le phénomène par lequel un film de Cu électrodéposé voit ses grains grossir avec le temps et sa résistivité baisser, simplement en restant à température ambiante ?

  1. AÉlectromigration
  2. BMigration sous contrainte
  3. CAuto-recuit (self-annealing)
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : C. Auto-recuit (self-annealing)

Juste après électrodéposition, le film de Cu a des grains petits (quelques dizaines de nm) et instables, notamment à cause de l'incorporation d'additifs ; même à température ambiante, il recristallise en quelques heures à quelques jours, les grains grossissent jusqu'à environ 1 µm et la résistivité baisse d'environ 20 %. C'est l'auto-recuit. Comme les propriétés et la vitesse de polissage changent selon le temps d'attente, on effectue généralement après électrodéposition un recuit à environ 100 à 400 °C pour achever la croissance des grains avant la CMP.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Procédés d'interconnexion

  1. Quel est le principal objectif de la pratique de conception consistant à placer, là où c'est possible, deux vias ou plus au lieu d'un seul pour relier les couches d'interconnexion ?
  2. Quel terme désigne la partie des contacts et interconnexions locales reliant les transistors (côté FEOL) à l'interconnexion multicouche ?
  3. Quelle est la principale raison pour laquelle la résistance des vias pose problème dans les interconnexions multicouches miniaturisées ?
  4. Quelle description de la capacité d'une interconnexion est correcte ?
  5. Quel est l'effet d'une augmentation de l'épaisseur (hauteur) d'une interconnexion à largeur constante ?