식각
유도 결합 플라즈마(ICP)형 식각 장치의 특징으로 올바른 것은?
- A플라즈마를 사용하지 않는다
- B코일로 고밀도 플라즈마를 생성하며, 플라즈마 밀도와 이온 에너지를 따로 제어하기 쉽다
- C액체 약액을 사용한다
정답과 해설 보기
정답: B. 코일로 고밀도 플라즈마를 생성하며, 플라즈마 밀도와 이온 에너지를 따로 제어하기 쉽다
ICP형에서는 챔버 위나 주위의 코일에 고주파를 흘려 만든 유도 전계로 10¹¹~10¹² cm⁻³의 고밀도 플라즈마를 생성하고, 웨이퍼 쪽에는 별도의 고주파 전원으로 바이어스를 가합니다. 플라즈마의 밀도(라디칼과 이온의 양)와 웨이퍼에 닿는 이온의 에너지를 독립적으로 조정하기 쉬우며, 수 Pa 이하의 낮은 압력에서 고속이면서 이방성이 높은 식각이 가능해 실리콘이나 금속의 식각에서 널리 사용됩니다.