CMP et nettoyage

Quel est l'état d'une surface de silicium dont le dernier nettoyage a été fait à l'acide fluorhydrique dilué ?

  1. ALa surface est terminée par de l'hydrogène et devient hydrophobe
  2. BLa surface est recouverte de métal
  3. CLa surface est recouverte d'un oxyde épais et devient hydrophile
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Réponse : A. La surface est terminée par de l'hydrogène et devient hydrophobe

Après retrait de l'oxyde à l'acide fluorhydrique dilué, la surface de silicium est terminée par de l'hydrogène (liaisons Si-H) et devient hydrophobe, l'eau y perlant. Cette surface s'oxyde peu à l'air pendant quelques dizaines de minutes à quelques heures, mais, hydrophobe, elle attire facilement les particules et forme aisément des marques d'eau. On maîtrise donc le temps d'attente (Q-time) jusqu'à l'étape suivante, comme l'oxydation de grille ou la croissance épitaxiale.

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