Was ist Silizid?

Verbindung aus Silizium und einem Metall, etwa NiSi oder TiSi2. Es wird auf Source-, Drain- und Gateoberflächen gebildet, um Widerstand und Kontaktwiderstand zu senken.

Japanische Bezeichnung: シリサイド

Fachgebiet: Verdrahtungsprozesse

Verwandte Begriffe

Barrieremetall (Diffusionsbarriere) Black'sche Gleichung Damascene-Verfahren Dual-Damascene-Verfahren IR-Drop (Spannungsabfall) Keimschicht (Seed Layer) Low-k-Material Luftspalt (Air Gap) Mehrlagenverdrahtung MOL (Middle of Line)

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