Wie heißt bei EUV-Masken das Phänomen, bei dem die Dicke des Absorbermusters im Vergleich zur Wellenlänge nicht vernachlässigbar ist und schräg einfallendes Licht z. B. Schatten wirft und das Bild beeinflusst?

Antwort: B. Mask-3D-Effekt

Die EUV-Maske ist reflektierend, und das Licht fällt um etwa 6° geneigt ein. Da der Absorber mit 50 bis 70 nm dicker als die Wellenlänge von 13,5 nm ist, werfen die Absorberflanken Schatten oder verändern die Phase; je nach Strukturrichtung verschieben sich Maße und Positionen, und auch die beste Fokuslage hängt von der Struktur ab (Mask-3D-Effekt). Dem begegnet man mit Absorbermaterialien, die hoch absorbieren und dünn sein können, der Entwicklung phasenschiebender EUV-Masken und Korrekturen per OPC.