포토리소그래피

EUV 마스크에서 흡수체 패턴의 두께가 파장에 비해 무시할 수 없어, 비스듬히 입사하는 빛이 그림자를 만드는 등 상에 영향을 주는 현상을 무엇이라고 하는가?

  1. A블루밍
  2. B마스크 3D 효과
  3. C로딩 효과
정답과 해설 보기

정답: B. 마스크 3D 효과

EUV 마스크는 반사형이며 빛이 약 6° 기울어 입사합니다. 흡수체의 두께가 50~70 nm로 파장 13.5 nm보다 두꺼워서, 흡수체의 측면이 그림자를 만들거나 위상이 변하여 패턴의 방향에 따라 치수나 위치가 어긋나고, 초점의 최적 위치도 패턴에 따라 달라집니다(마스크 3D 효과). 흡수율이 높아 얇게 만들 수 있는 흡수체 재료나 위상 시프트형 EUV 마스크의 개발, OPC에 의한 보정이 이루어지고 있습니다.

  • A. 블루밍은 이미지 센서에서 전하가 넘치는 현상입니다.
  • B. 올바릅니다. 마스크의 입체적인 구조에 의한 영향입니다.
  • C. 로딩 효과는 가공 면적에 따라 처리 속도가 달라지는 현상입니다.
이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

포토리소그래피의 다른 문제

  1. 설계한 레이아웃 중 노광이나 가공 시뮬레이션에서 패턴이 연결되거나 끊어지기 쉬울 것으로 예측되는 취약한 곳을 무엇이라고 하는가?
  2. EUV 노광에서 레지스트에서 나오는 가스(아웃가스)가 문제시되어 온 주된 이유는?
  3. 해상도 식 R = k1 × λ / NA에 따라 해상도를 향상시키는(R을 작게 하는) 방법으로 올바른 것은?
  4. EUV 노광에서 사용하는 빛의 파장은?
  5. 포지티브형 포토레지스트에 대한 설명으로 올바른 것은?

이 분야의 비교