Lithografie

Welche Technik erhöht die Auflösung feiner Strukturen, indem die Maske aus schräger Richtung beleuchtet wird?

  1. AOPC (optische Proximity-Korrektur)
  2. BOff-Axis-Beleuchtung (schräge Beleuchtung)
  3. CPhasenschiebermaske
Antwort und Erläuterung anzeigen

Antwort: B. Off-Axis-Beleuchtung (schräge Beleuchtung)

Bei feinen periodischen Strukturen breiten sich die Beugungsordnungen unter großen Winkeln aus und gelangen nicht mehr in die Linse, sodass das 0. Beugungsmaximum allein kein Bild ergibt. Bei schrägem Lichteinfall können sowohl das 0. als auch die 1. Beugungsordnung einer Seite von der Linse erfasst werden; theoretisch lässt sich dadurch der auflösbare Pitch auf etwa die Hälfte verringern, und die Schärfentiefe wird größer. Es gibt Ringbeleuchtung sowie Dipol- und Quadrupolbeleuchtung; heute werden Beleuchtungssysteme verwendet, die die Form der Lichtquelle pixelweise frei einstellen können.

Dieses Thema üben Zur Themenseite

Weitere Fragen zu Lithografie

  1. Welches Verfahren entwickelt einen positiven chemisch verstärkten Resist mit einem organischen Lösungsmittel und löst dabei die unbelichteten Bereiche auf?
  2. Welcher Vorteil der für die EUV-Belichtung entwickelten Resists mit Metalloxiden ist richtig?
  3. Welche Strukturierungstechnik nutzt die Eigenschaft von Blockcopolymeren, von selbst regelmäßige feine Muster zu bilden?
  4. Welche Aufgabe hat die Lithografie in der Halbleiterfertigung?
  5. Welche ursprüngliche Bedeutung hat das Wort „Lithografie (lithography)“?

Vergleiche zu diesem Thema