Was ist SADP (selbstjustierte Doppelstrukturierung)?

Auf den Seitenwänden einer Kernstruktur werden Spacer gebildet, der Kern wird entfernt, und die Spacer dienen als Maske für einen halb so großen Rasterabstand, wie ihn die Lithografie allein erlaubt. Zweimaliges Anwenden ist SAQP.

Japanische Bezeichnung: SADP(自己整合ダブルパターニング)

Fachgebiet: Fortschrittliche Transistoren (FinFET und GAA)

Verwandte Begriffe

CFET (komplementärer FET) DTCO (Entwurf-Technologie-Co-Optimierung) EOT (äquivalente Oxiddicke) FD-SOI (vollständig verarmtes SOI) FinFET GAA (Gate-all-around) Gate-last (Replacement-Metal-Gate) High-k/Metall-Gate Nanosheet-Transistor Zufällige Dotierstoffschwankung (RDF)

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