Lithografie

Welches Verfahren entwickelt einen positiven chemisch verstärkten Resist mit einem organischen Lösungsmittel und löst dabei die unbelichteten Bereiche auf?

  1. APositive-Tone-Entwicklung
  2. BEUV-Belichtung
  3. CNegative-Tone-Entwicklung (NTD)
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Antwort: C. Negative-Tone-Entwicklung (NTD)

Bei der Negative-Tone-Entwicklung wird ein positiver chemisch verstärkter Resist verwendet, aber mit einem organischen Lösungsmittel (Butylacetat usw.) als Entwickler werden die unbelichteten Bereiche aufgelöst und die belichteten bleiben stehen. Bei schmalen Gräben und kleinen Löchern ist der Bildkontrast besser, wenn die hellen Bereiche der Maske verringert werden können (Dunkelfeld); daher wird das Verfahren etwa bei der Bildung von Kontaktlöchern und Leitbahngräben mit ArF-Immersionsbelichtung eingesetzt. Ein weiterer Vorteil ist die geringe Quellung des Resists.

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