Lithografie

Was ist der Hauptzweck der unter dem Resist aufgetragenen Antireflexschicht (BARC)?

  1. ADas Ätzen zu beschleunigen
  2. BStehende Wellen im Resist und Maßstreuung durch von der Unterlage reflektiertes Licht zu unterdrücken
  3. CResist und Wafer zu verkleben
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Antwort: B. Stehende Wellen im Resist und Maßstreuung durch von der Unterlage reflektiertes Licht zu unterdrücken

Tritt das Belichtungslicht durch den Resist und wird an der Unterlage reflektiert, interferiert es mit dem einfallenden Licht und erzeugt stehende Wellen (vertikale Streifen) im Resist, die absorbierte Lichtmenge ändert sich bei geringen Unterschieden der Resistdicke periodisch, sodass die Maße streuen (Swing Curve), und an Stufen der Unterlage schräg reflektiertes Licht verschmälert die Strukturen. BARC ist ein organischer oder anorganischer Absorberfilm, der die Reflexion von der Unterlage auf höchstens 1 % drückt und die Maßgenauigkeit erhöht.

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