Ionenimplantation

Welche Ionenimplantationsanlage wird verwendet, um wie bei der Source-/Drain-Bildung große Dosen in kurzer Zeit zu implantieren?

  1. AHochenergie-Implanter
  2. BHochstrom-Implanter (High Current)
  3. CMittelstrom-Implanter
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Antwort: B. Hochstrom-Implanter (High Current)

Ionenimplantationsanlagen werden nach Strahlstrom und Energie in Hochstrom-, Mittelstrom- und Hochenergietypen eingeteilt. Für Implantationen mit hoher Dosis um 10¹⁵ ions/cm², etwa für Source/Drain oder Polysilizium-Gates, werden Hochstromtypen verwendet, die Strahlen von einigen mA bis einigen zehn mA liefern; entscheidend ist die Technik, niederenergetische Strahlen mit hohem Strom ohne Aufweitung zu transportieren. Mittelstromtypen dienen z. B. der Schwellenspannungseinstellung und Halo-Implantation, Hochenergietypen z. B. tiefen Wannen.

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