離子佈植

為了在短時間內佈植大劑量,例如形成源極、汲極,所使用的離子佈植機為下列何者?

  1. A高能量佈植機
  2. B高電流(high current)佈植機
  3. C中電流佈植機
查看答案與解析

正確答案:B. 高電流(high current)佈植機

離子佈植機依所處理的束電流與能量,分為高電流型、中電流型、高能量型。源極、汲極與多晶矽閘極等10¹⁵ ions/cm²前後的高劑量佈植,使用可輸出數mA~數十mA離子束的高電流型,其關鍵在於不使低能量、大電流的離子束擴散而加以傳輸的技術。中電流型用於臨界電壓調整與暈環,高能量型則用於深井區等。

練習這個領域 前往領域頁面

離子佈植的其他題目

  1. 在相同退火條件下,增加離子佈植的劑量時,佈植層的片電阻一般會如何變化?
  2. 以光阻作為離子佈植的遮罩時,應注意的事項為下列何者?
  3. 將晶圓直接暴露於含摻質的電漿中,佈植低能量離子的電漿摻雜,其優點下列何者正確?
  4. 傾斜晶圓進行離子佈植時,因光阻等高圖案的陰影而產生無法被佈植的部分,這種現象稱為什麼?
  5. 以退火使摻質活化時,決定可在電性上活化之濃度上限的性質為下列何者?

這個領域的比較