良率與品質管理

根據前一道製程的量測結果等,自動補正下一批次或晶圓的設備加工條件的控制,是下列何者?

  1. AFMEA
  2. B柏拉圖分析
  3. CAPC(Run-to-Run控制等)
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正確答案:C. APC(Run-to-Run控制等)

APC(Advanced Process Control,先進製程控制)是利用量測資料自動調整設備條件,以縮小製程變異的控制。在具代表性的Run-to-Run控制中,例如前一道製程量測到的膜厚偏厚,就會延長下一道CMP的時間。相對於監控異常並使其停止的SPC,這是一種主動補正、使其向中心靠攏的手法。FMEA用於事前的風險評估,柏拉圖分析則用於找出重點項目。

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