공정 재료(가스와 케미칼)

포토레지스트의 현상에 일반적으로 쓰이는 수용액은 무엇입니까?

  1. ATMAH(수산화테트라메틸암모늄) 수용액
  2. B염산
  3. C불산
정답과 해설 보기

정답: A. TMAH(수산화테트라메틸암모늄) 수용액

포지티브형 레지스트의 현상에는 TMAH의 2.38% 수용액(약 0.26 N)이 업계 표준으로 쓰입니다. 노광으로 알칼리에 녹기 쉬워진 부분이 녹아 패턴이 나타납니다. 농도를 맞춰 두면 어느 공장에서든 현상 속도를 재현하기 쉽습니다. 염산과 불산은 산이며 레지스트를 현상하는 작용이 없습니다. 유기 용제로 미노광부를 녹이는 네거티브형 현상이라는 방식도 있습니다.

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