산화와 확산

다수의 웨이퍼를 한 번에 열산화할 때 일반적으로 사용되는 장치는?

  1. A수직형 열처리로(확산로)
  2. B이온 주입 장치
  3. CCMP 장치
정답과 해설 보기

정답: A. 수직형 열처리로(확산로)

열산화, 확산, 어닐링에는 석영 반응관에 웨이퍼를 100장 정도 세로로 쌓아 가열하는 수직형 열처리로가 많이 사용됩니다. 관 내부 온도가 균일하고 한 번에 많은 웨이퍼를 처리할 수 있으며, 웨이퍼를 아래에서 넣고 빼므로 대기 유입도 적게 할 수 있습니다. 대표적인 제조사로는 도쿄일렉트론과 고쿠사이일렉트릭 등이 있습니다. 수 초의 짧은 열처리가 필요할 때는 램프로 한 장씩 가열하는 RTP 장치가 사용됩니다.

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