為了減少 Si/SiO2 介面的介面態，而在含氫氣氛中進行的熱處理稱為什麼？

正確答案：B. 形成氣體退火

Si/SiO2 介面因斷鍵的矽原子（懸浮鍵）而殘留約 10¹¹～10¹² cm⁻²eV⁻¹ 的介面態。在氫氣與氮氣的混合氣體（形成氣體，氫含量數 %）中以約 400～450 ℃ 熱處理，氫會與懸浮鍵結合，將介面態降至約 10¹⁰ cm⁻²eV⁻¹，使臨界電壓穩定，並改善次臨界特性與載子遷移率。這是常在配線製程最後進行的處理。