MOSFET

在p型基板的MOS結構中,對閘極施加負電壓時,半導體表面的狀態為下列何者?

  1. A電子聚集的反轉狀態
  2. B電洞聚集的累積狀態
  3. C載子消失的完全真空狀態
查看答案與解析

正確答案:B. 電洞聚集的累積狀態

在p型基板的MOS結構中對閘極施加負電壓時,多數載子電洞會被吸引到表面而成為累積狀態。施加正電壓時,首先電洞被驅離,只留下固定的受體離子而成為空乏狀態,電壓再增大則少數載子電子聚集而成為反轉狀態。累積、空乏、反轉這三種狀態可在C-V量測中以電容的變化觀察到,是評估MOS結構的基礎。

練習這個領域 前往領域頁面

MOSFET的其他題目

  1. 為了使CMOS反相器的邏輯臨界電壓約為電源電壓的一半,下列何種設計是正確的?
  2. 關於將nMOS與pMOS並聯的傳輸閘(transmission gate)的優點,下列何者正確?
  3. 對MOSFET的閘極-源極間施加遠超過額定的電壓時,可能發生下列何種損壞?
  4. MOSFET通道的遷移率小於矽晶體內部的遷移率,其主要原因為下列何者?
  5. 在短通道MOSFET中,汲極電流小於(VGS − Vth)的平方律,轉而呈現接近一次方的相依性,其主要原因為下列何者?

這個領域的比較