離子佈植
為了形成淺p型層,有時不佈植單獨的硼而是佈植BF2⁺離子,其理由為下列何者?
- A因為BF2⁺作為n型雜質發揮作用
- B因為BF2⁺可使機台較便宜
- C因為是分子離子且較重,即使加速能量相同,硼也會打入較淺
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正確答案:C. 因為是分子離子且較重,即使加速能量相同,硼也會打入較淺
硼的質量為11,是輕且在低能量下也容易打入較深的雜質。若以BF2⁺(質量49)佈植,當碰撞使分子破裂時,整體能量中分配給硼原子的只有11/49(約22%),因此可佈植得較淺。能量極低的離子束會因空間電荷而擴散,不易取得電流,所以長期採用這個方法。氟雖有助於非晶化,但也有氣泡等副作用。