磊晶成長

在雙極性電晶體等元件中,於磊晶層下方設置高濃度層(埋層)的主要目的為下列何者?

  1. A為了降低集極的串聯電阻
  2. B為了加厚基極
  3. C為了使磊晶層成為高電阻
查看答案與解析

正確答案:A. 為了降低集極的串聯電阻

在垂直型雙極性電晶體中,集極電流會在磊晶層底部橫向流動,朝表面的集極電極前進。若在磊晶成長前於基板以砷或銻預先形成並埋入高濃度的n⁺層,這條路徑的電阻就會下降,電晶體的飽和電壓與高頻特性也會獲得改善。使用不易擴散的砷或銻,可抑制磊晶成長中因熱而向上滲出的量。

  • A. 正確。是為了降低集極電阻的高濃度層。
  • B. 與基極的厚度無關。
  • C. 磊晶層的電阻率由成長時的摻雜決定。
練習這個領域 前往領域頁面

磊晶成長的其他題目

  1. SiC磊晶成長(CVD)的一般成長溫度最接近下列何者?
  2. 300 mm晶圓的矽磊晶成長中,成為主流的反應爐形式為下列何者?
  3. 對晶格常數差異很大的材料進行異質磊晶成長時,在其間夾入組成逐漸改變之層的「漸變緩衝層」,其目的為下列何者?
  4. 在用來評估磊晶層晶體品質的X光繞射搖擺曲線中,波峰半高寬很窄代表什麼?
  5. 在以MOCVD成長GaN時,作為條件管理的「V/III比」,其意義為下列何者?