磊晶成長

下列何者是以減壓進行矽磊晶成長的優點之一?

  1. A容易抑制自摻雜
  2. B成長速率一定變快
  3. C成長溫度可提高到2000 ℃以上
查看答案與解析

正確答案:A. 容易抑制自摻雜

以減壓(數kPa~數十kPa)進行磊晶成長時,氣體的擴散變快,從基板蒸發的雜質不易滯留在成長面附近的邊界層,因此可抑制自摻雜。邊界層變厚,使氣體均勻分布,所以膜厚均勻性也有變好的傾向,並且更容易進行選擇性成長。另一方面,成長速率有比常壓時慢的傾向,因此要依用途選用。

練習這個領域 前往領域頁面

磊晶成長的其他題目

  1. 利用紅外光的干涉來量測高濃度基板上低濃度磊晶層厚度的方法為下列何者?
  2. 在Si基板上成長GaN時,主要的課題為下列何者?
  3. 在磊晶成長過程中通入摻雜氣體,於成長的同時添加雜質,稱為什麼?
  4. 將不同材料的層交替堆疊,且每層薄至數nm左右的週期性結構稱為什麼?
  5. 下列何者是用來形成SiGe HBT基極層的技術?