박막 증착(CVD와 PVD)
스퍼터링이나 증착 등의 PVD에서 깊은 트렌치의 측벽이나 바닥에 막이 잘 형성되지 않는 주된 이유는?
- APVD에서는 원자가 트렌치를 피하도록 움직이기 때문에
- B원자가 거의 직진하여 날아오기 때문에 트렌치 입구에서 보이지 않는 부분에는 도달하기 어렵기 때문에
- CPVD에서는 막이 액체가 되기 때문에
정답과 해설 보기
정답: B. 원자가 거의 직진하여 날아오기 때문에 트렌치 입구에서 보이지 않는 부분에는 도달하기 어렵기 때문에
PVD에서는 타깃이나 증발원에서 튀어나온 원자가 거의 직진하여 기판에 부착되며, 표면 위를 거의 이동하지 않습니다. 그래서 트렌치의 상면이나 입구에는 막이 형성되기 쉬운 반면, 측벽이나 바닥처럼 입구에서 보이지 않는 부분에는 도달하기 어렵습니다(섀도잉). 원료 가스가 트렌치 깊숙이 들어가 표면에서의 화학 반응으로 성막하는 CVD나 ALD가 단차 피복성이 더 좋습니다.