CMP與清洗
近年的清洗步驟中,將藥液稀釋使用或使用功能水的主要目的為下列何者?
- A減少藥液的使用量與對環境的負荷
- B一定要增強清洗力
- C改變晶圓的顏色
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正確答案:A. 減少藥液的使用量與對環境的負荷
以往的清洗大量使用高濃度藥液,但現在正推動將藥液稀釋數十至數百倍,或使用臭氧水、氫水等功能水及電解水,在減少藥液與超純水的使用量及廢液的同時,仍獲得所需的清洗效果。半導體工廠使用大量的水與藥液,因此這不僅可降低成本,在減輕環境負荷方面也是重要的做法。
CMP與清洗
正確答案:A. 減少藥液的使用量與對環境的負荷
以往的清洗大量使用高濃度藥液,但現在正推動將藥液稀釋數十至數百倍,或使用臭氧水、氫水等功能水及電解水,在減少藥液與超純水的使用量及廢液的同時,仍獲得所需的清洗效果。半導體工廠使用大量的水與藥液,因此這不僅可降低成本,在減輕環境負荷方面也是重要的做法。