CMP와 세정
최근 세정 공정에서 약액을 희석하여 사용하거나 기능수를 사용하는 주된 목적은?
- A약액 사용량과 환경 부하를 줄이기 위해
- B세정력을 반드시 강하게 하기 위해
- C웨이퍼의 색을 바꾸기 위해
정답과 해설 보기
정답: A. 약액 사용량과 환경 부하를 줄이기 위해
기존 세정에서는 진한 약액을 대량으로 사용했지만, 약액을 수십~수백 배로 희석하거나 오존수·수소수 같은 기능수, 전해수를 사용함으로써 약액과 초순수의 사용량 및 폐액을 줄이면서 필요한 세정 효과를 얻으려는 노력이 진행되고 있습니다. 반도체 공장은 대량의 물과 약액을 사용하므로, 비용 절감과 함께 환경 부하 저감 측면에서도 중요한 활동입니다.