矽晶圓

以CZ法成長的矽晶體所含間隙氧的濃度,其參考值最接近下列哪一項?

  1. A約10¹⁸ cm⁻³
  2. B約10²³ cm⁻³
  3. C約10¹⁰ cm⁻³
查看答案與解析

正確答案:A. 約10¹⁸ cm⁻³

CZ晶體含有從石英坩堝溶出的氧,約為10¹⁷〜10¹⁸ cm⁻³(數〜十幾ppma),多數位於間隙位置。這些氧經熱處理析出後有助於吸附,也能固定差排使晶圓更堅固,但過多則會造成缺陷與熱施體。濃度以紅外線吸收(波長約9 µm的吸收)來量測,並依用途管控在狹窄的範圍內。

  • A. 正確。參考值約為10¹⁷〜10¹⁸ cm⁻³。
  • B. 約10²³ cm⁻³比矽的原子密度(約5×10²² cm⁻³)還大,不可能。
  • C. 約10¹⁰ cm⁻³是本質載子濃度左右的數值,作為氧濃度太小。
練習這個領域 前往領域頁面

矽晶圓的其他題目

  1. 矽晶圓的鏡面拋光(以CMP進行的精拋光)中,拋光液的磨粒一般使用哪一種?
  2. 高濃度摻入砷或銻的低電阻n⁺矽晶圓,其主要用途下列哪一項是正確的?
  3. 將CZ矽在450℃附近熱處理時,氧原子會聚集並作為施體作用,使晶圓的電阻率改變。這稱為什麼?
  4. 為了高靈敏度地分析晶圓表面的金屬汙染,以氫氟酸蒸氣溶解表面的氧化膜,並以液滴回收後送入分析設備的前處理方法是哪一種?
  5. 晶圓表面上,波長約數mm、高度約數十nm的非常和緩的凹凸,稱為什麼?

這個領域的比較