シリコンウエハ

FZシリコンに中性子を照射し、シリコンの一部をリンに変換して均一なn型にする方法はどれか。

  1. A中性子照射ドーピング(NTD)
  2. Bイオン注入
  3. C熱拡散
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正解：A. 中性子照射ドーピング(NTD)

シリコンに中性子を当てると、一部のシリコン(Si-30)が中性子を吸収してSi-31になり、それが崩壊してリンになります。結晶全体に均一にリンができるため、抵抗率のばらつきが非常に小さいn型ウエハが得られ、高耐圧のパワーデバイスなどに使われます。

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