シリコンウエハ

CZ法で、るつぼに磁場をかけて融液の対流を抑え、酸素濃度などを制御する方法はどれか。

  1. AFZ法
  2. BMCZ法(磁場印加CZ法)
  3. Cブリッジマン法
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正解：B. MCZ法(磁場印加CZ法)

シリコンの融液は電気を通すため、磁場をかけると融液の対流が抑えられます。MCZ法では、これによってるつぼから溶け出す酸素の結晶への取り込みを抑えたり、結晶の均一性を高めたりできます。大口径のCZ結晶の育成で使われています。

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