プロセス材料(ガス・薬液)

g線・i線の露光に広く使われてきたポジ型レジストの主な構成として正しいものはどれか。

  1. Aポリエチレンと塩
  2. B金属の粉末と水
  3. Cノボラック樹脂とジアゾナフトキノン(DNQ)系の感光剤
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正解:C. ノボラック樹脂とジアゾナフトキノン(DNQ)系の感光剤

g線・i線用のポジ型レジストは、アルカリに溶けるノボラック樹脂に、溶けるのを妨げるジアゾナフトキノン系の感光剤を混ぜたものです。光が当たると感光剤が変化してアルカリに溶けやすくなり、露光した部分が現像で溶けます。KrFやArFでは化学増幅型レジストが使われます。

  • A. ポリエチレンと塩ではありません。
  • B. 金属粉と水ではありません。
  • C. 正しい。ノボラック樹脂とDNQ系の感光剤です。
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