プロセス材料(ガス・薬液)

スパッタリングで使うターゲットの説明として正しいものはどれか。

  1. A成膜したい材料でできた板で、イオンが衝突して原子がはじき出される
  2. Bウエハを固定するための静電チャック
  3. C露光に使うフォトマスク
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正解:A. 成膜したい材料でできた板で、イオンが衝突して原子がはじき出される

ターゲットは、Ti、Ta、Cu、Alなど成膜したい材料でできた板です。プラズマ中のイオンが衝突すると表面の原子がはじき出され、それがウエハに堆積して膜になります。膜の品質に直結するため、ターゲットにも高い純度と均一な組織が求められます。

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