공정 재료(가스와 케미칼)
스퍼터링에 쓰는 타깃에 대한 설명으로 올바른 것은 무엇입니까?
- A성막하려는 재료로 만든 판으로, 이온이 충돌하면 원자가 튀어나온다
- B웨이퍼를 고정하기 위한 정전 척
- C노광에 쓰는 포토마스크
정답과 해설 보기
정답: A. 성막하려는 재료로 만든 판으로, 이온이 충돌하면 원자가 튀어나온다
타깃은 Ti, Ta, Cu, Al 등 성막하려는 재료로 만든 판입니다. 플라즈마 속의 Ar 이온이 충돌하면 표면의 원자가 튀어나와 웨이퍼에 퇴적되어 막이 됩니다. 뒷면에 자석을 두어 플라즈마를 가두는 마그네트론 방식으로 성막 속도를 높이는 것이 일반적입니다. 불순물이나 결정립의 불균일은 막에 그대로 나타나므로, 타깃에는 높은 순도와 균일한 조직이 요구됩니다. 정전 척이나 마스크와는 다른 부품입니다.