高濃度の基板の上に低濃度のエピ層を高温で成長させるとき、固体の中の拡散によって基板の不純物がエピ層側にしみ出し、界面の濃度変化がなだらかになる現象を何と呼ぶか。

正解：C. 外方拡散(アウトディフュージョン)

エピ成長や後の熱処理の高温によって、高濃度基板の不純物が固体中を拡散してエピ層に入り込み、基板とエピ層の境界の濃度変化がなだらかになります。これを外方拡散といい、実効的なエピ層の厚さが減ります。気相を通して不純物が取り込まれるオートドーピングとは区別されます。

• A. エレクトロマイグレーションは、電流によって配線の金属原子が移動する現象です。
• B. スパッタリングは、イオンの衝突で原子をはじき出す成膜法です。
• C. 正しい。基板の不純物が固体中を拡散してエピ層に入る現象です。